关于SPUTTER系列

NSC-2350是用于光学薄膜的金属式溅射设备，尤其适用于大面积基板的系统。 可用于移动终端设备、汽车等大面积面板的AR+AS膜。

特征
镀膜面积：高1100mm×宽450 mm
6个阴极靶
用可选组件更换阴极
高反应性等离子体源实现低吸收膜
自动上下片基板搬送系统
通过优化沉积和搬送系统实现低颗粒薄膜
一个程序可镀AR/AS膜
规格
真空腔体 装片室：304不锈钢，宽700mm×高1860 mm×深1760 mm
卸片室: 宽700×高1860×深1760mm
运送室: 宽660×高1860×深1760mm
工艺室：304不锈钢，直径2350 mm×高1950 mm
基板夹具 可选15– 22片
基板旋转滚筒系统 直径2245 mm, 滚筒式, 10rpm-50 rpm（可调）
反应源 ICP（电感耦合等离子体）
溅射源 双旋转阴极（可选平面靶材）
真空系统 粗抽泵，分子泵，冷阱
性能
极限压力 装片室：10Pa
工艺室：≤2.0 × 10-4 Pa
抽气速率 装片室：≤8 分钟 (从大气到 10Pa)
工艺室：≤40分钟(从大气到9.0×10-4 Pa)
工作条件
设备尺寸 7000 mm (宽) × 6600 mm (深)×4000 mm (高)
电源 3相+G, 380V±5％、300kVA、50/60Hz
水流量 ≥400升/分钟(水压：0.6-0.7 Mpa)
压缩空气 0.5 MPa - 0.7 MPa
总重重 约30000 kg